Основной контент книги Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Text PDF
Umfang 357 Seiten
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Autor
annie baudrant
€173,67
Über das Buch
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
Genres und Tags
Einloggen, um das Buch zu bewerten und eine Bewertung zu hinterlassen
Hinterlassen Sie Kommentare und Bewertungen, stimmen Sie für die, die Ihnen gefallen.
Altersbeschränkung:
0+Veröffentlichungsdatum auf Litres:
10 April 2018Umfang:
357 S. ISBN:
9781118601112Gesamtgröße:
14 МБGesamtanzahl der Seiten:
357Rechteinhaber:
John Wiley & Sons Limited