Основной контент книги Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
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Umfang 357 Seiten
Silicon Technologies. Ion Implantation and Thermal Treatment
Autor
annie baudrant
€168,37
Über das Buch
The main purpose of this book is to remind new engineers in silicon foundry, the fundamental physical and chemical rules in major Front end treatments: oxidation, epitaxy, ion implantation and impurities diffusion.
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Altersbeschränkung:
0+Veröffentlichungsdatum auf Litres:
10 April 2018Umfang:
357 S. ISBN:
9781118601112Gesamtgröße:
14 МБGesamtanzahl der Seiten:
357Rechteinhaber:
John Wiley & Sons Limited