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Основной контент книги Atomic Layer Deposition
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Umfang 274 Seiten

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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
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€220,80

Über das Buch

Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Buch David Cameron, Arthur Sherman «Atomic Layer Deposition» — online auf der Website lesen. Hinterlassen Sie Kommentare und Bewertungen, stimmen Sie für Ihre Favoriten.
Altersbeschränkung:
0+
Veröffentlichungsdatum auf Litres:
02 Oktober 2018
Umfang:
274 S.
ISBN:
9781118747421
Gesamtgröße:
3.3 МБ
Gesamtanzahl der Seiten:
274
Verleger:
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